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[期刊论文] 作者：Ｈ．Ｆｒａｎｋｅｎｂｅｒｇｅｒ,Ｃ．Ｄａｕｂｅ,Ｊ．Ｓｔｏｌｌｅｎｗｅｒｋ,Ｍ．Ｂｅｎｄｅｒ,Ａ．Ｋｏｐｐｅｌ,Ｆ．Ｗｅｔｔｅ,
来源：液晶与显示 年份：1998
对ＭｏｖｅＭａｇ阴极（旨在提高靶利用率）叠加ＲＦ的ＤＣ磁控溅射方法所淀积的低电阻率ＩＴＯ膜的结果进行了讨论。实验是在一个串级溅射系统ＡＲＩＳＴＯ５００Ｓ上进行的，可用基片面积高达５７０×１３５０ｍｍ２，在基片温度２００℃及靶利用率高于４０％的条件下......
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