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[期刊论文] 作者：李国卿,李剑锋,Ｎ．果瓦里,钟志源,
来源：真空 年份：1998
本文介绍了等离子体源的构造和性能，在较高真空条件下实现离子强化和镀膜一体化技术。氮离子流强达到８ｍＡ／ｃｍ２、氮化速度达到８０μｍ／ｈｒ，在材料表面形成良好的力学梯度，提高膜基结合力和服役寿命......
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