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[期刊论文] 作者:Charles C.K.Cheng,
来源:激光 年份:2004
这是一个每小时可以检验2000到4000个零件,发现划痕、凹坑、接缝空穴、锈迹以及其他表This is an hourly inspection of 2,000 to 4,000 parts, scratches, pits, seam hol...
Atomic Layer Deposited Y2O3 On GaAs(001)-4x6-Thickness Dependence Of Crystallographic Structures And
[会议论文] 作者:C.K.Cheng,S.Y.Wu,K.H.Chen,C.H.Hsu,J.Kwo,M.Hong,
来源:2015台湾物理年会 年份:2015
Molecular beam epitaxy(MBE)has been used to grow rare-earth oxide films of Gd2O3 and Y2O3 epitaxially on GaAs(001)-4x6,GaAs(111)A,Si(111),and GaN(0001).Inte...
[期刊论文] 作者:Yu-Chun Ma,Xian-Long Hong,She-Qin Dong,C.K.Cheng,Jun Gu,
来源:计算机科学技术学报(英文版) 年份:2006
With the recent advent of deep submicron technology and new packing schemes, the components in the integrated circuit are often not rectangular. On the basis of...
[会议论文] 作者:K.H.M.Chen,H.Y.Lin,C.K.Cheng,C.Y.Wang,X.Q.Zhang,Y.H.Lee,C.M.Cheng,M.Hong,J.Kwo,
来源:2015台湾物理年会 年份:2015
Topological insulators(TIs),a new state of quantum matter,display a rich variety of extraordinary physical phenomena.High quality 3-D TI films of Bi2Se3 and Bi2Te3 have been obtained by van der Waals...
[期刊论文] 作者:洪先龙,马昱春,董社勤,蔡懿慈,顾钧,C.K.Cheng,,
来源:中国科学E辑 年份:2002
布图规划是VLSI布图设计中的关键环节, 通常采用随机优化算法, 而布图结构的编码表示(或称布图表示)是基于随机优化方法的布局算法的关键. 提出一种新的布图表示-角模块序列(...
[期刊论文] 作者:洪先龙,马昱春,董社勤,蔡懿慈,C.K.Cheng,顾钧,
来源:中国科学E辑:技术科学 年份:2002
布图规划是VLSI布图设计中的关键环节,通常采用随机优化算法,而布图结构的编码表示(或称布图表示)是基于随机优化方法的布局算法的关键.提出一种新的布图表示-角模块序列(CBL),并......
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