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[期刊论文] 作者：Charles C.K.Cheng,
来源：激光 年份：2004
这是一个每小时可以检验2000到4000个零件,发现划痕、凹坑、接缝空穴、锈迹以及其他表This is an hourly inspection of 2,000 to 4,000 parts, scratches, pits, seam hol...
Atomic Layer Deposited Y2O3 On GaAs(001)-4x6-Thickness Dependence Of Crystallographic Structures And
[会议论文] 作者：C.K.Cheng,S.Y.Wu,K.H.Chen,C.H.Hsu,J.Kwo,M.Hong,
来源：2015台湾物理年会 年份：2015
Molecular beam epitaxy(MBE)has been used to grow rare-earth oxide films of Gd2O3 and Y2O3 epitaxially on GaAs(001)-4x6,GaAs(111)A,Si(111),and GaN(0001).Inte...
[期刊论文] 作者：Yu-Chun Ma,Xian-Long Hong,She-Qin Dong,C.K.Cheng,Jun Gu,
来源：计算机科学技术学报（英文版） 年份：2006
With the recent advent of deep submicron technology and new packing schemes, the components in the integrated circuit are often not rectangular. On the basis of...
[会议论文] 作者：K.H.M.Chen,H.Y.Lin,C.K.Cheng,C.Y.Wang,X.Q.Zhang,Y.H.Lee,C.M.Cheng,M.Hong,J.Kwo,
来源：2015台湾物理年会 年份：2015
Topological insulators(TIs),a new state of quantum matter,display a rich variety of extraordinary physical phenomena.High quality 3-D TI films of Bi2Se3 and Bi2Te3 have been obtained by van der Waals...
[期刊论文] 作者：洪先龙,马昱春,董社勤,蔡懿慈,顾钧,C.K.Cheng,,
来源：中国科学E辑 年份：2002
布图规划是VLSI布图设计中的关键环节, 通常采用随机优化算法, 而布图结构的编码表示(或称布图表示)是基于随机优化方法的布局算法的关键. 提出一种新的布图表示-角模块序列(...
[期刊论文] 作者：洪先龙,马昱春,董社勤,蔡懿慈,C.K.Cheng,顾钧,
来源：中国科学E辑:技术科学 年份：2002
布图规划是VLSI布图设计中的关键环节,通常采用随机优化算法,而布图结构的编码表示（或称布图表示）是基于随机优化方法的布局算法的关键.提出一种新的布图表示-角模块序列（CBL）,并......
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