搜索筛选:
搜索耗时2.6173秒,为你在为你在102,285,761篇论文里面共找到 1 篇相符的论文内容
发布年度:
[期刊论文] 作者：R.P.Vasquez,F.J.Grunthaner,董世川,,
来源：红外技术 年份：2004
一、引言窄禁带材料的MOS工艺需要寻找击穿特性合适的、化学稳定性好的高质量介质膜。但是大多数III—V族化合物半导体的原生氧化物化学计量比不稳定,组分不均匀,易水解。因...
相关搜索：
