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改进缺陷,套刻和聚焦性能的第五世代浸没式曝光系统(英文)
[期刊论文] 作者：Jan Mulkens,Bob Streefkerk,Hans Jasper,Jos de Klerk,Fred de Jong,Leon Levasier,Martijn Leenders,, 来源：电子工业专用设备 年份：2008
论述了第五世代双扫描平台浸液式扫描曝光机的性能和进展。表明了在高速扫描状态下有生产价值的套刻和聚焦性能的实现。浸液式设备更多的关键部分与缺陷有关,而且该机的改进...
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