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The influence of the Si02 gate insulator thickness to the performance and Bias-voltage stress stabil
[会议论文] 作者：Fan Zhou,Huaping Lin,Jun Li,X.Y.Jiang,Z.L.Zhang,Jianhua Zhang,
来源：第七届全国暨华人有机分子和聚合物发光与光电特性学术会议 年份：2011
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The influence of the Si02 gate insulator thickness to the performance and Bias-voltage stress stabil
[会议论文] 作者：Fan Zhou,Huaping Lin,Jun Li,X.Y.Jiang,Z.L.Zhang,Jianhua Zhang,
来源：第七届全国暨华人有机分子和聚合物发光与光电特性学术会议 年份：2011
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