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[期刊论文] 作者：王刘坤,Twan Bearda,Karine Kenis,S,
来源：半导体学报 年份：2004
采用可控的金属沾污程序,最大金属表面浓度控制在1012cm-2数量级,来模拟清洗工艺最大可能金属沾污表面浓度.利用斜坡电流应力和栅注入方式测量本征电荷击穿来评估超薄栅氧特...
[期刊论文] 作者：王刘坤,Twan Bearda,Karine Kenis,Sophia Arnauts,Patrick Van Doorne,陈寿面,Paul Mertens,Marc Heyns,
来源：半导体学报 年份：2004
采用可控的金属沾污程序 ,最大金属表面浓度控制在 10 1 2 cm- 2数量级 ,来模拟清洗工艺最大可能金属沾污表面浓度 .利用斜坡电流应力和栅注入方式测量本征电荷击穿来评估超...
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