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[期刊论文] 作者：Klaus Maurischat,丁志廉,
来源：印制电路信息 年份：2001
超过5年以上应用的液态光致抗蚀剂表明,以液态光致抗蚀剂取代干膜抗蚀剂所取得成本效益而得到了接受.在1999年用于内层制造的光致抗蚀剂估计约在220百万平方米,而液态光致抗...
[期刊论文] 作者：Klaus Maurischat,蔡积庆,,
来源：印制电路信息 年份：1999
1.干膜光致抗蚀剂干膜光致抗蚀剂发明于30多年前。最初的工业应用可以追溯到70年代早期。从那时以来,如果没有干膜,PCB的成像加工几乎是不可想象的。尽管人们在初期曾有疑虑,...
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