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[期刊论文] 作者：RakeshK.Singh ChintanPatel Gre,
来源：电子工业专用设备 年份：2004
叙述了新一代CMP浆料的过滤工艺和方法.低比重和极小平均粒子尺寸的二氧化硅、氧化铝及氧化铈磨料在这些浆料中要求严格地控制在0.5μm,甚至对平均工作粒影响最小的更小粒子(...
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