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[会议论文] 作者：J-H Lee,S-C Yang,
来源：2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 年份：2011
The negatively charged nanoparticles are generated for prepare the silicon thin films in the SH4 plasma.It has been recognized that the nanoparticles contamination is a major problem in plasma process...
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