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[期刊论文] 作者：T.Kasuga, 李建勇,,
来源：国外建材科技 年份：2004
本文研究了三种具有不同厚度和表面缺陷深度的抗压层的化学增强玻璃对用作存储磁盘的基片的适合性。抗压层的厚度由15～40μm 变化到120～160μm。测量了旋转断裂强发和三点弯曲...
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