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[期刊论文] 作者：V. Banthia,M. Bal,
来源：集成电路应用 年份：2006
应变工程一直在整个工业界中得到技术人员的广泛采用，以避开晶体管的等比缩小极限和提高90nm和65nm逻辑技术的量产表现。通过引入膜应力高达～3Gpa的氧化物、氮化物和SiGe，表明技......
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