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[期刊论文] 作者：T.Y.Chin,WG.O.ldham,C.Hovland,李志晨,
来源：微电子学 年份：1986
本文报道的是采用低能量的氮或氨注入硅中形成氮化硅的方法。讨论了采用各种分析手段包括椭偏光法,化学腐蚀法、透射电子显微镜(TEM)、X射线光电子显微镜(XPS)、红外透射分光...
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