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[期刊论文] 作者：张际亮,沃银花,郦剑,甘正浩,
来源：材料科学与工程学报 年份：2005
本文采用低温常压CVD方法制备铝基SiOx陶瓷膜层.以黄铜为对磨材料,使用销-盘式磨损试验机对比研究纯铝表面与SiOx膜层的滑动磨损性能,通过SEM分析磨损的表面形貌并分析其磨损...
[会议论文] 作者：凌国平,沃银花,王幼文,郦剑,
来源：第十届全国耐磨材料大会 年份：2003
选取单晶硅(111)面作为冲蚀靶面，对球形颗粒、角形颗粒垂直冲蚀靶面时产生的表面断裂形态与静态球形压痕进行比较，根据硬颗粒冲蚀时在样品表层材料中发生绝热应变的假设，探讨固......
[期刊论文] 作者：杜平凡,沃银花,姚奎鸿,王勇,李晔,
来源：浙江理工大学学报 年份：2005
采用硅烷(SiH4)直接分解的化学气相沉积技术(CVD),在钢基体表面生成硅扩散涂层.X射线衍射(XRD)分析表明硅扩散涂层的主要成分是铁的硅化物FeSi.用扫描电子显微镜(SEM)对其形...
[期刊论文] 作者：李昆仑,王疆,沃银花,郦剑,王幼文,
来源：表面技术 年份：2005
研制了一种用于铅黄铜零部件表面除铅溶液,并开发了与之相关的黄铜零件表面除铅工艺.X射线能谱分析证明,经表面除铅处理后的黄铜零件表面的含铅量,低于标准规定值....
[期刊论文] 作者：王耐艳,姚奎鸿,沃银花,李晔,王勇,,
来源：浙江理工大学学报 年份：2006
根据热力学相关理论，利用基本函数△rHT^0、△GT^0、Kp在Si3N4粉体制备过程中的变化特征，分析了典型Si3N4粉体合成工艺的反应进行趋势，生成相的化学组成、稳定性，合成工艺最大转...
[期刊论文] 作者：刘涌,肖瑛,沃银花,宋晨路,韩高荣,
来源：真空科学与技术学报 年份：2004
使用改进的常压化学气相沉积(APCVD)系统制备了非晶硅薄膜,测量了样品的光致发光特性,使用Raman光谱和X射线光电子能谱(XPS)谱测量了薄膜的微结构特征.样品在523 nm出现发光...
[期刊论文] 作者：张际亮,沃银花,郦剑,甘正浩,徐亚伯,
来源：浙江大学学报(工学版) 年份：2005
采用低温常压化学气相沉积(APCVD)的方法在铝基底上制备硅氧化物陶瓷膜层.采用XPS、XRD、HRTEM、UV-VAS和NIRS等技术分析膜层的成分、结构组织和形貌特征,并测试了膜层的光学...
[期刊论文] 作者：张际亮,郦剑,沃银花,王幼文,甘正浩,,
来源：材料热处理学报 年份：2006
应用化学气相沉积（CVD）方法在铝表面形成SiOx陶瓷涂层，通过弯曲实验研究了涂层与基体的结合性能。利用扫描电子显微镜（SEM）观察了弯曲部位的表面形貌，弯曲过程表述为表面凹坑与内部......
[期刊论文] 作者：王勇,沃银花,姚奎鸿,祝洪良,王耐艳,,
来源：无机材料学报 年份：2006
采用硅烷和氨气在立式双温区流态床中化学气相沉积，制备了形状规则的球状无定形氮化硅纳米粉体，并利用X射线衍射（XRD）、透射电镜（TEM）和傅立叶红外（FTIR）研究了该纳米粉体的形貌、成......
[期刊论文] 作者：张际亮,郦剑,沃银花,王幼文,甘正浩,
来源：材料热处理学报 年份：2004
应用化学气相沉积(CVD)方法在铝表面形成SiOx陶瓷涂层,通过弯曲实验研究了涂层与基体的结合性能.利用扫描电子显微镜(SEM)观察了弯曲部位的表面形貌,弯曲过程表述为表面凹坑...
[期刊论文] 作者：朱流, 沃银花, 郦剑, 俞建国, 金富根, 宋晓平,,
来源：热处理 年份：2005
分析了杭州市热力管道膨胀节腐蚀失效的原因。SUS304不锈钢波纹管在制作过程中的塑性变形造成的残余应力使得表面出现滑移台阶,导致钝化膜破裂。CEBF耐腐蚀涂层在高温下起泡...
[期刊论文] 作者：张际亮，孙学鹏，郦剑，沃银花，ZHANGJi-Liang，SUNXue-Peng，LIJian，WOYin-Hua,
来源：材料热处理学报 年份：2007
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[期刊论文] 作者：张际亮,郦剑,沃银花,王幼文,沈复初,甘正浩,
来源：中国有色金属学报 年份：2004
采用低温常压化学气相沉积(CVD)方法在铝基底上制备了硅氧化物陶瓷膜层.使用SEM、XPS、AFM、XRD、HRTEM和UV-VIS等技术分析了膜层的形貌、成分和组织结构特征,测试了膜层的孔...
[期刊论文] 作者：谢莲革, 沃银花, 汪建勋, 沈鸽, 翁文剑, 刘起英, 韩,
来源：浙江大学学报：工学版 年份：2005
采用化学气相沉积法(CVD)制备了Sb掺杂SnO2薄膜(ATO),研究了Sb掺杂量对ATO薄膜结构和性能的影响.利用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)等分析手段对所制...
[期刊论文] 作者：谢莲革,沃银花,汪建勋,沈鸽,翁文剑,刘起英,韩高荣,,
来源：浙江大学学报(工学版) 年份：2005
采用化学气相沉积法(CVD)制备了Sb掺杂SnO2薄膜(ATO),研究了Sb掺杂量对ATO薄膜结构和性能的影响.利用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)等分析手段对所制...
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