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[期刊论文] 作者:张明高,涂叔鼎,谢茂浓,龙汉仪,张启友, 来源:四川大学学报:自然科学版 年份:1993
研究了建立低频段阻抗标准的问题,提出了以金属膜电阻器建立阻抗标准的设想;由这类电阻器建立的低频段阻抗标准,不确定度达5×10^-4或更高,具有频率范围宽,准确度高等优点,可实现低频......
[期刊论文] 作者:彭志坚,司文捷,谢茂浓,傅鹤鉴,苗赫濯, 来源:物理化学学报 年份:2004
设计了metal-polysilane-silicon (MPS)结构.首次发现MPS结构具有电容-电压(C-V)特性,许多MPS结构的C-V曲线平带电压为正,且其C-V特性与聚硅烷枝化度一致,即随着聚硅烷枝化度...
[会议论文] 作者:曾红梅,傅鹤鉴,马洪,谭建,苏志珊,谢茂浓, 来源:第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会 年份:1999
用自制的聚硅烷为抗蚀剂,分别用酚醛树脂、聚氨脂树脂和醇酸树脂作平坦层以308nmXeCl准分子激光为刻蚀光源,采用接近式曝光方式,通过O〈,2〉-RIE对显影后图形进行处理,实现了亚微一宽的掩模图形向......
[期刊论文] 作者:彭志坚,司文捷,谢茂浓,傅鹤鉴,苗赫濯, 来源:物理化学学报 年份:2003
设计了metal-polysilane-silicon(MPS)结构.首次发现MPS结构具有电容-电压(C-V)特性,许多MPS结构的C-V曲线平带电压为正,且其C-V特性与聚硅烷枝化度一致,即随着聚硅烷枝化度...
[会议论文] 作者:傅鹤鉴,马洪,谭建,苏志珊,谢茂浓,曾红梅, 来源:第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会 年份:1999
用自制的聚硅烷为抗蚀剂,分别用酚醛树脂、聚氨脂树脂和醇酸树脂作平坦层以308nmXeCl准分子激光为刻蚀光源,采用接近式曝光方式,通过O〈,2〉-RIE对显影后图形进行处理,实现了亚微一宽的掩模图形向......
[会议论文] 作者:谢茂浓[1]彭志坚[2]唐琳[1]傅鹤鉴[2], 来源:中国化学会全国第五届无机化学学术会议 年份:2000
用低温等离子体处理聚硅浣涂层成功地制备了SiO膜.IR谱给出Si-O键的吸收峰波数随氧等离子体处理时间不同在1065-1088cm范围变化;XPS谱给出Si2p的结合能为103.3-103.5eV,硅氧...
[期刊论文] 作者:石瑞英,龚敏,伍登学,马瑶,袁菁,万超,谢茂浓, 来源:高等教育发展研究 年份:2007
21世纪是信息时代,微电子技术是21世纪信息时代的关键技术之一,也是现代一个国家综合实力的衡量标准。国家把微电子技术列为21世纪初重点发展的新技术,力争通过10年的时间,使我国......
[会议论文] 作者:傅鹤鉴,马洪,彭志坚,苏志珊,曾红梅,谢茂浓, 来源:中国化学会全国第五届无机化学学术会议 年份:2000
用“顺点滴式”方法改进了单体合居,较原“全混式”提高了产率,降低了消耗;用Wurtz法以二氯硅烷和三氯硅烷为原料,经“预聚”和“混聚”二种方式合成了枝状聚硅烷....
[期刊论文] 作者:傅鹤鉴,李高全,谭键,马洪,陈德本,谢茂浓, 来源:四川大学学报(自然科学版) 年份:1997
采用308nmXeCl准分子激光研究了聚硅烷溶液和聚硅烷薄膜的光降解反应,利用玻璃片为基底,旋转涂布,分别以酚醛树脂和聚氨酯为平坦层,以聚硅烷为成像层和阻挡层,构成双层工艺,进行接近式曝光,用......
[期刊论文] 作者:向少华,谢茂浓,张明高,廖伟,彭志坚,傅鹤鉴, 来源:半导体技术 年份:2001
氧等离子体处理高阻P型〈100〉硅片上的聚硅烷涂层制备SiO2/Si结构。其MOS结构平带电压随氧等离子体处理时间、反应室气压、射频功率等条件的改变而变化,平带电压最小可达-0.5...
[期刊论文] 作者:马洪,苏志珊,曾红梅,彭志坚,傅鹤鉴,陈德本,谢茂浓, 来源:四川大学学报(自然科学版) 年份:2001
用'顺点滴式'方法改进了单体合成,较原'全混式'提高了产率,降低了消耗;用Wurtz法以二氯硅烷和三氯硅烷为原料,经'预聚'和'混聚'二种方式合...
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