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[期刊论文] 作者：陈颖慧,王旭光,席仕伟,施志贵,姚明秋,,
来源：微纳电子技术 年份：2013
采用射频反应磁控溅射法制备了AlN压电薄膜,并分析了制备条件对AlN薄膜性能的影响。为了确定c轴择优取向生长AlN薄膜的制备工艺参数,设计了关于溅射功率、衬底温度、氮氩体积...
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