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[期刊论文] 作者：卢勤,李化鹏,陈希明,
来源：天津理工大学学报 年份：2009
采用射频磁控溅射法，以高纯Al（99．999％）为靶材，高纯N2为反应气体，在硅及金刚石上制备了氮化铝（AIN）薄膜．研究了氩气氮气比例、溅射气压等工艺参数对A1N膜沉积的影响规律．结果表明，随着氮......
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