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[期刊论文] 作者：殷海丰,,
来源：天津科技 年份：2012
介绍了研制适合梁氏引线开关二极管用的硅外延材料的工艺过程，通过采用CVD化学气相外延生长技术，对硅源流量与掺杂剂浓度进行精确控制，解决了满足梁氏引线开关二极管用的薄层高......
[期刊论文] 作者：殷海丰, 傅颖洁, 陈涛,,
来源：甘肃科技 年份：2012
随着高频大功率器件的广泛应用,对用于制作器件的外延片的要求也越来越高,其中最重要的是外延层电阻率。为了提高器件的工作频率与工作电压,要求外延层电阻率要高,电阻率均匀...
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