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[期刊论文] 作者：曹占芳,钟宏,邱朝辉,符剑刚,刘广义,王帅,,
来源：现代化工 年份：2009
主要对缓冲体系中辉钼矿电氧化浸出行为进行了考察,最优的浸出工艺参数为液固比25∶1,搅拌速度400r/min,NaCl浓度4mol/L,Na2CO3浓度10g/L,pH=9,室温,Mo浸出率可达到99.5%,且...
[期刊论文] 作者：曹占芳，钟宏，邱朝辉，符剑刚，刘广义，王帅，CAOZhan-,
来源：现代化工 年份：2009
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