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[会议论文] 作者：夏立芳,汪日志,
来源：中国机械工程学会热处理专业学会第五届年会 年份：1991
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[会议论文] 作者：李刘合,夏立芳,
来源：首届全国耐蚀耐磨技术及工程应用研讨会 年份：1998
在真空阴极弧离子镀的过程中，在阴极材料表面形成的阴极斑点处电流密度很大，斑点温度很高，发射出来的物质中包含有很大宏观粒子团(MPs:macroparticles)，曲线型结构两种，该文介绍了......
[会议论文] 作者：郭秀文,吕玉芳,夏立芳,
来源：中国兵工学会金属材料学会兵器产品失效分析交流会 年份：1985
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[会议论文] 作者：夏立芳,马欣新,孙跃,孙明仁,
来源：首届全国耐蚀耐磨技术及工程应用研讨会 年份：1998
该文等离子体基离子注入的基本特征，近年来的进展，并与等离子体化学热处理进行了比较，提出了等离子体基材料表面改性的发展的新方向。...
[会议论文] 作者：李光,夏立芳,马欣新,孙跃,
来源：1998年中国材料研讨会 年份：1998
该文采用等离子体基离子注入（ＰＢⅡ）法制备类金刚石碳（ＤＬＣ）基和银基多层膜，并测试了多层膜的成分分布，研究了不同表面改性层配对对谐波齿轮摩擦副运行寿命的影响。结果表明：谐波齿轮上制备......
[会议论文] 作者：马欣新;吴培莲;孙跃;夏立芳;,
来源：1998年中国材料研讨会 年份：1998
在等离子体源离子注入的同一真空室中安放多个不平衡磁控溅射靶，将磁控溅射气相沉积与等离子体源离子注入结合起来，可以实现多种元素的离子注入，离子注入混合，离子复合注入和形成......
[会议论文] 作者：田晶泽,吕反修,唐伟忠,夏立芳,
来源：2000年中国博士后学术会议 年份：2000
采用自选开发研制磁增强活性反应离子镀(ME-ARE)系统成功地合成了立方氮化硼薄膜.通过给基片施加脉冲直流偏压以代替传统的射频偏压增强了立方氮化硼的成膜稳定性,研究了基片的直流脉冲偏压、等离子体放电电流、通入气体流量比(Ar/N)和基片温度沉积参数对立方氮......
[会议论文] 作者：马欣新,车仁超,孙跃,夏立芳,赵康令,
来源：第七次全国热处理大会 年份：1999
利用待离子体基离子注入，采用磁控测射沉积Ｔｉ与等离子体源离子注入Ｎ交替进行的方法，在ＧＣｒ１５轴承钢表面形成多周期（Ｎ，Ｔｉ）离子注入混合层。通过ＸＰＳ分析研究该层的成分和化学价态，用ＴＥＭ分析改性层的组织结构，并对该层与多弧离子镀形成的ＴｉＮ层对磨的摩擦性能进行了研究。结果表明，表面改性层成分......
[会议论文] 作者：田晶泽[1]吕反修[1]唐伟忠[1]夏立芳[2],
来源：2000年中国博士后学术会议 年份：2000
采用自选开发研制磁增强活性反应离子镀(ME-ARE)系统成功地合成了立方氮化硼薄膜.通过给基片施加脉冲直流偏压以代替传统的射频偏压增强了立方氮化硼的成膜稳定性,研究了基片...
[会议论文] 作者：马欣新[1]车仁超[1]孙跃[1]夏立芳[1]赵康令[2],
来源：第七次全国热处理大会 年份：1999
利用待离子体基离子注入，采用磁控测射沉积Ｔｉ与等离子体源离子注入Ｎ交替进行的方法，在ＧＣｒ１５轴承钢表面形成多周期（Ｎ，Ｔｉ）离子注入混合层。通过ＸＰＳ分析研究该层的成分和化学价态，用ＴＥＭ分析改性层的组织......
[会议论文] 作者：张海泉[1]李刘合[1]张彦华[1]史建刚[1]李光[2]夏立芳[2],
来源：第八届全国青年材料科学技术研讨会 年份：2001
在Windows NT平台上采用C++Builder快速开发软件和OpenGL图形接口技术开发了电子束焊接动态过程仿真系统.该系统能够实时仿真电子束深熔焊各点的热循环、焊缝横截面、热影响...
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