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[会议论文] 作者:Wolf,J. Weinzirl,P. Heusser,U. Wolf, 来源:国际补充医学研究会第六届年会 年份:2011
[会议论文] 作者:Thomas J. J. Müller, 来源:第五届多组分反应及相关化学国际研讨会(MCR2011) 年份:2011
[会议论文] 作者:Thomas J. J. Müller, 来源:第五届多组分反应及相关化学国际研讨会(MCR2011) 年份:2011
[会议论文] 作者:Iwashita,J. Schulze,L.-J. Hou,U. Czarnetzki, 来源:2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 年份:2011
By using a combined experimental,numerical and analytical approach,we investigate Electrical asymmetry effect (EAE),which could achieve high-degree separate control of ion flux and energy in dual-freq...
[会议论文] 作者:J. Lechner, 来源:国际补充医学研究会第六届年会 年份:2011
Question: The author observes astounding improvements of systemic complaints after cleaning pain free edentulous areas of the jaw.These areas are defined by fatty-degenerative osteonecrosis of cancell...
[会议论文] 作者:J. Lee,D. H. Shin,Y. J. Kim,Y. U. Shin,H. S. Uhm, 来源:2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 年份:2011
A pure steam-plasma torch generated by microwave energy and uses it for coal gasification in a compact and lightweight operating system....
[会议论文] 作者:J. J. Zhu,F. Cheng,Kai Chang, 来源:中国物理学会2011年秋季学术会议 年份:2011
[会议论文] 作者:J. Lee,J. H. Lee,N.–E. Lee,S. J. Park, 来源:2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 年份:2011
Currently,extreme ultra-violet lithography (EUVL) is the major candidate of next generation lithography for below 25 nm technology node....
[会议论文] 作者:J. Lee,J. H. Lee,N.–E. Lee,S. J. Park, 来源:2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 年份:2011
Currently,extreme ultra-violet lithography (EUVL) is the major candidate of next generation lithography for below 25 nm technology node....
[会议论文] 作者:J. Hore, 来源:the 4th international conference on magneto science (第四届磁科学国 年份:2011
[会议论文] 作者:Daniel J. Kliebenstein, 来源:第二届植物代谢国际会议 年份:2011
[会议论文] 作者:Kenneth J. Linthicum, 来源:第二届国际蚊虫及蚊媒病监测和防治学术研讨会 年份:2011
Global climate change/variability greatly influences local conditions that can affect emerging vector-borne disease patterns because the pathogens,their vectors...
[会议论文] 作者:A.Y.Chen,J. Lu, 来源:国际计算/实验科学与工程学术会议(icces2011) 年份:2011
[会议论文] 作者:J. T. Gudmundsson, 来源:2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 年份:2011
The high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) discharge is a recent addition to plasma based sputtering technology....
[会议论文] 作者:J. Yang,J. Xu,Y.L. Liu,N. Huang, 来源:国际计算/实验科学与工程学术会议(icces2011) 年份:2011
[会议论文] 作者:Zhang,U. Tirnakli,L.Wang,T.L. Chen, 来源:中国物理学会2011年秋季学术会议 年份:2011
A modified version of the Olami-Feder-Christensen model has been introduced to consider avalanche size differences.Our model well demonstrates the power-law behavior and finite size scaling of avalanc...
[会议论文] 作者:Brauer,U. Schadewald,B. Halbedel, 来源:the 4th international conference on magneto science (第四届磁科学国 年份:2011
[会议论文] 作者:U. Schadewald,B. Halbedel,M. Ziolkowski,H. Brauer, 来源:the 4th international conference on magneto science (第四届磁科学国 年份:2011
[会议论文] 作者:Klein,U. Gerber,M. Wolf, 来源:国际补充医学研究会第六届年会 年份:2011
[会议论文] 作者:J. Q. Li,Z. W. Wang,Y. J. Song,Z. Wang, 来源:中国物理学会2011年秋季学术会议 年份:2011
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