采用电子束蒸发方法在三硼酸锂(LBO)晶体上制备了1064 nm,532 nm二倍频增透膜.利用Lambda900分光光度计、MTSNanoIndenter纳米力学......

采用电子柬蒸发方法在LBO晶体上制备了无缓冲层和具有不同缓冲层的1064nm，532nm二倍频增透膜．利用Lambda900分光光度计和调Q脉冲激光......

采用电子束蒸发方法在LBO晶体上制备了无缓冲层和具有不同缓冲层的1064nm，532nm二倍频增透膜。利用分光光度计、纳米力学综合测试系......