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采用电子束蒸发方法在LBO晶体上制备了无缓冲层和具有不同缓冲层的1064nm，532nm二倍频增透膜。利用分光光度计、纳米力学综合测试系统以及调Q脉冲激光装置对样品的光学性能、附着力以及抗激光损伤性能进行了测试分析。结果表明：所有样品在1064nm和532nm波长的剩余反射率都分别小于0．1％和0．2％；与无缓冲层样品相比，预镀Al2O3缓冲层样品的附着力提高了43．1％，具有SiO2缓冲层样品的附着力显著提高，而MgF2缓冲层的插入却导致薄膜附着力降低。应用全塑性压痕理论和剪切理论对薄膜的附着力增强机制