二步外延相关论文
叙述了一种减小硅外延自掺杂影响的改进的二步外延法，减压－常压二步法，采用该方法所生长的外延层，其过渡区明显小于常规二步法的结果，和......
本文提出了一种新的减小硅外延自掺杂影响的二步外延方法。利用该方法在均匀的重掺As衬底上外延,以10~(14)～10~(18)/cm~3浓度区域计......
本文采用附面层模型,对硅外延中的自稀释现象作了理论分析,分析了生长速率、气体流速及外延生长温度等因素对自稀释的影响.提出了......
在重掺砷（As）衬底上生长外延层一直是外延工艺难点。外延工艺过程中由于衬底的掺杂浓度与外延层的掺杂浓度相差很大，自掺杂与固态外扩......
