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在两个不同方向上具有周期性结构的二维光栅,在光谱分析、激光技术、集成光学、精密测量等技术领域具有重要的科学研究和工程应用......
本文系统地研究了Shipley光刻胶制作光栅掩模的曝光和显影过程,建立了掩模制作的曝光模型和显影模型。根据模型模拟了光栅掩模的最......
本文系统的研究了制作光刻胶光栅掩模曝光和显影过程,建立了掩模制作的曝光模型和显影模型。根据模型模拟了光栅掩模的最终槽形,并......
