刻划间隙相关论文
柱面涂胶问题、刻划间隙的选取及新型光刻掩模板的研制是柱面图形光学刻划需解决的三大关键问题,本文以这三个问题为中心详细讨论了......
用近场菲涅耳理论,分析了接近式曝光法刻制光栅及码盘时,刻划间隙与刻线质量之间的关系;并利用刻线相对对比度的概念给出了确定刻划间......