用电子束蒸发沉积在K9玻璃基底上镀制HfO2薄膜,沉积温度为200℃,蒸发速率为0.03nm/s。由X射线衍射谱可知薄膜出现明显结晶,且为单......

用中频脉冲反应磁控溅射法,在溅射功率为78W,93W和124W以及衬底温度分别为室温,500℃及677℃下制备了氧化铒涂层.采用原子力显微镜......

<正>日本可乐丽集团旗下的Kuraray Noritake Dental(以下简称KND)于2014年6月4日宣布,开发出了弯曲强度、断裂韧性及耐热水性俱佳......

在缺氧或含Al的尖晶石型LiMn2O4晶体中经常观察到成孪晶关系的单斜晶系的晶体(见附图).图e为沿立方的[111]方向的选区电子衍射花样......