孪生靶相关论文
磁控溅射系统中薄膜厚度的均匀性是关键指标之一.通过分析磁场强度、靶材与基板的距离和气体压强对Si3N4和SiO2两种薄膜厚度均匀性......
孪生靶技术应用于低辐射镀膜玻璃的生产，其投资少，生产工艺连续稳定，产品性能优。镀膜颜色的均匀性可达△E≤1.5CIELAB，优于直流阴极和......
采用中频孪生靶反应磁控溅射在金属镍基底上制备氮化铬薄膜。利用X射线衍射仪、显微硬度计、扫描电子显微镜、原子力显微镜、磨擦......
采用中频反应磁控溅射孪生靶在玻璃基体上沉积TiO2薄膜.沉积过程中采用多路送气和等离子体发射光谱监测控制系统,使整个反应溅射过......
<正>(接2017年第5期第80页)(2)中频溅射的沉积速率高。对硅靶,中频反应溅射的沉积速率是直流反应溅射速率的10倍。比射频溅射高五......
由于孪生靶可以克服Ti-A1合金靶造价高,制备过程中对膜层成分控制难以及合金结构中的孔隙等缺陷造成的辉光放电不稳定等一系列问题......
氧化铝是一种机械性能优良的材料,在薄膜领域具有广泛应用。本研究通过孪生靶高功率脉冲磁控溅射技术(TWIN-MAG HPPMS)沉积制备了......
采用数值计算模型,计算了旋转圆柱靶溅射产额分布。数值计算中假设从靶溅射出来的粒子服从余弦函数定律。计算得到的单靶溅射产额......
利用自制的等离子体增强型渗注镀复合处理设备上的非平衡磁控溅射功能，在不同硬度基底上制备了Ti/TiN／Ti（N，C）多层复合膜。膜呈深黑色，表......
磁场分布对旋转圆柱靶磁控溅射阴极的性能起着决定性作用。本文应用ANSYS有限元方法对单个旋转圆柱靶和孪生旋转圆柱靶阴极磁场强......
石英晶体谐振器制作的关键技术就是获得精确指定谐振频率的电极制备。磁控溅射镀膜技术在“被电极”工艺中的应用，较好的解决了蒸发......
