射频磁控共溅射技术相关论文
该论文主要研究半导体GaAs及InAs纳米颗粒在绝缘介质SiO中镶嵌的复合薄膜(GaAs-SiO及InAs-SiO)的制备技术、薄膜的微观结构和光吸......
采用Zn/SiO2复合靶,用射频磁控共溅射技术在Si(111)衬底上沉积金属锌(Zn)/二氧化硅(SiO2)基质复合薄膜,在空气气氛中700℃条件下进......