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光刻机是制造集成电路的核心设备,随着集成电路向先进制程不断发展,集成电路制造业对光刻机套刻精度要求越来越高。运动台定位精度......
为实现掩模台水平向三自由度高精度的运动定位,掩模台测量系统需要建立准确的多自由度解耦测量模型。采用二维衍射平面光栅尺建立......
高精度平面光栅尺测量系统的测量精度直接影响浸没光刻机硅片台的定位精度和稳定时间.考虑到安装在平面光栅尺载体上的平面光栅尺......
集成电路产业是信息技术产业的核心。作为集成电路制造的关键装备，光刻机决定了集成电路的特征尺寸和集成度。工件台系统是光刻机的......
为了降低掩模台位置测量的位置误差,首先阐述了二维衍射平面光栅尺在掩模台上的布局与信号采集模块;然后运用两个二维衍射平面光栅......
基于掩模台平面光栅尺的位置算法是多元非线性隐函数方程组,针对其解算较困难的问题,工程上常使用迭代法进行数值解算。但随着掩模......
本文分析了高精度平面光栅尺的测量原理,推导了工件台坐标系的位置关系,利用读头光束与光栅平面的几何关系,建立光斑位移与工件台......
