掩蔽膜相关论文
运用ANSYS软件建立了808nm高功率半导体激光器内部热源分析模型,并对其进行瞬态温度及稳态温度模拟,讨论了SiO2及A1N材料掩蔽膜对......
氮化硅薄膜是芯片制造中广泛运用的一种绝缘薄膜,其可用作芯片表面的掩蔽膜及钝化膜。简要介绍IC制造中几种主要的氮化硅薄膜的制......
<正> 随着半导体技术的发展,尤其是红外薄膜台面型器件图形日愈微细化的情况下,传统的化学腐蚀技术远不能满足器件成型研制的要求,......
运用ANSYS软件建立了808nm高功率半导体激光器内部热源分析模型,并对其进行瞬态温度及稳态温度模拟,讨论了SiO2及AlN材料掩蔽膜对......
超低电容TVS二极管结构中,硅沟槽不仅仅用于填充多晶硅进行介质隔离,还要利用沟槽将雪崩二极管从平面改到纵向完成,降低有源区面积......
对影响ST-切向石英表面湿法腐蚀质量的因素进行了试验研究,并对结果进行了详细分析。试验基片材料为双面抛光的ST-切向石英晶体,掩......
通过光纤把外部光源引入SOI集成光路时，为减少偶然因素对耦合效率的影响，需解决光纤定位问题，以及为提高多通道波导型器件、半导体激......
