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正胶剥离相关论文
纳米尺度自旋转移矩器件的制备工艺
提出一种改进的自旋转移矩器件的制备工艺:在电子束曝光形成纳米级图形之后,依次采用离子束刻蚀、带胶绝缘层淀积再正胶剥离的图形......
期刊
纳米柱
磁性多层膜
电子束曝光
离子束刻蚀
正胶剥离
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