步进机相关论文
该系统采用89C2051单片机控制五相混合式步进机，直流力矩电机进行供输片的结构。它由89C2051单片机、步进机、步进机驱动器、步进机......
由于芯片制造者竭力与摩尔定律保持一致,半导体产业便无疑成为娴熟的光学光刻所拒绝放弃任何可能的机会.光刻设备不断地突破其先前......
5年前，365nm步进重复光刻设备的能力，容易满足200nm套刻要求。用同一类设备曝光连续的图层仅有很小的差异。一组相同带宽和型号之间......
本文对步进机一个全面的介绍，再基于单片机对步进电机的控制。本文采用硬件控制系统，通过单片机MC9S12XS128与光电编码器对步进电机......
【正】 用单板机改造旧机床,进行单机控制是比较经济可靠的。我们进行了初步尝试,取得了比较满意的效果。我厂有一台苏州产SSX 型......
本文详细介绍了φ１１４和φ２１９焊管机组中新型凸轮式铣头机的特点及传动原理，并对凸轮的运动轨迹作了公式化的结论。同时也相应介绍了步进机......
<正> ALS Lasertep 200机是GCA公司1988年初投放市场的第二代准分子激光分步投影曝光设备。它采用KrF准分子激光源和自行设计的Fro......
准分子激光步进机在其实用价值方面已达到成熟阶段。本文对大视场大ＮＡ透镜的开开和０．３５μｍ及其以下的成像特征尺寸进行了说明，准分子激光器......
本文从对准系统与对准过程，提高型整片对准计算，激光步进对准测量系统，以及激光步进对准探测中对准标记形貌的作用等几个方面，介绍了Ｎｉｋｏｎ公......
线宽控制是步进机准确成象的重要因素。本文从探讨步进机的线宽误差和其对成象尺寸的影响出发，进而提出了步进机线宽控制应做的主要......
EVG公司推出EVG770 Gen II步进机，一种新型旗舰解决方案．纳米压印光刻机（NIL）。实现一种独特的分步重复压印方法，EVG770 Gen II解决了大......
本文讨论了新生产线上一种步进机，它是由美国半导体制造技术联合体和它的几个子公司联合开发的。它应用ｉ线（３６５ｎｍ）和深紫外（ＤＵＶ２４８ｎｍ）波长，具有高数值孔......
文中采用简单的长度测量原理，将单片机控制电路、光电编码器和以步进电机动力系统结合起来，通过单片机程序对步进机进行调控，光电编码......
本文概念了准分子激光步进机的发展概况，预测了在今后几代集成电路生产中的广阔前景。主要介绍了准分子激光窄谱带宽控制，中心波长调......
本文论述了用ｉ线（３６５ｎｍ）步进机进行６４ＭＤＲＡＭ芯片曝光技术。此前，我们曾试用常规的一步曝光法和ＮＡ＝０．５０的ｉ线镜头在采用和不用移相曝光技术的不同条件下进行整......
３００ｍｍ片子步进机的流片率ＮＩＫＯＮ公司第一设计部ＩＣ＆ＬＣＤ设备分部ＨｉｄｅｍｉＫａｗａｉ１前言就在１９９３年年底时，半导体产业界还很难决定继２００ｍｍ片子之后，下一代片子的主角究竟是由３００ｍｍ片子承担......
信息网络（NewTripoli，Pa）的一份报告预测，2000年全世界光学光刻步进机的市场销售将达到87亿美元，几乎为1997年的二倍。1997年全世界步进......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
本文首先对步进机进行了深入的概述,然后给出了基于单片机的步进电机控制。通过采用单片机AT89C51和脉冲分配器PMM8713控制步进电......
介绍由二片计数／定时器８２５３芯片及一片并行８２５５接口芯片组成的硬件直线插补器，它经过环型分配器及放大电路，同时控制二维步进电机实现快速直线......
介绍一个集成了双三相混合式步进电动机驱动系统.该系统采用正弦波细分的驱动方式,通过在电机内形成一个幅值基本不变的圆形旋转磁......
