溅射条件相关论文
用射频磁控溅射法在SrTiO衬底上外延生长PLZT薄膜,研究了不同的溅射工艺对薄膜生长速率的影响,探讨了不同的后期热处理条件与薄膜......
他们通过采用自行改进的磁控Ｓ枪，利用直流反应磁控技术，首次成功制备出ＺｎＯ类单晶薄膜。改变溅射条件，则可以获得不同Ｏ／Ｚｎ比的ＺｎＯ〈，１－ｘ〉薄膜。......
文章研究了溅射条件对Ｎｉ薄膜热敏电阻特性的影响。指出溅射电压，溅射气压，溅射中的加热条件，溅射中的直流偏压以及溅射条件对Ｎｉ薄膜特性的......
该论文运用射频溅射法制备了钴铬钽薄膜样品,并作了以下几方面的研究:(1)首先,在玻璃和硅基板上直接溅射CoCrTa薄膜,研究了溅射气......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
利用原子力显微镜 (AFM)和椭圆偏振仪研究了溅射条件对纳米 Al薄膜性能的影响。研究表明 ,随溅射 Ar气压的增大 ,纳米 Al膜的表面......
研究溅射条件和旋转磁场热处理对CoZrNb薄膜结构和性能的影响。结果表明，高的溅射功率和合适的氩气压强对非晶CoZrNb薄膜的形成有用......
一种金红石疏水薄膜的强化直流磁控溅射制备方法，其特征在于强化直流溅射条件，采用高磁控钛靶溅射，并结合高溅射电流密度、高基板温度......
用射频磁控溅射法在SrTiO3衬底上外延生长PLZT薄膜,研究了不同的溅射工艺对薄膜生长速率的影响,探讨了不同的后期热处理条件与薄膜......
采用La-Ni镶嵌靶，通过调节靶面上La,Ni的成份配比，射频溅射制备出多晶LaNi5薄膜，借助XPS和AES对薄膜的表面状况、TEM和XRD对薄膜的颗......
利用原子力显微镜（AFM）和椭圆偏振仪研究了溅射条件对纳米Al薄膜性能的影响。研究表明，随溅射Ar气压的增大，纳米Al膜的表面粗糙度增加，......
