激光辅助化学刻蚀相关论文
分别在空气和SF6环境下,使用波长为1064 nm的半导体微秒脉冲激光器扫描辐照单晶Si制备出微米量级的硅表面微结构,并利用扫描电子显......
提出了将激光辅助化学刻蚀技术应用于钇钡铜氧（YBCO）高温超导薄膜的刻蚀，研究了无掩膜YBCO薄膜激光化学刻蚀的表面特性及其变化规律，为......
提出了将激光辅助化学刻蚀技术应用于钇钡铜氧（YBCO）高温超导薄膜的刻蚀，研究了无掩膜YBCO薄膜激光化学刻蚀的表面特性及其变化规律，在......
利用自行研制的电流与红外实时监测系统，研究了YBCO高温超导薄膜激光辅助化学刻蚀进程中溶液腐蚀电流与红外辐射的变化规律，为YBCO激......
本文研究了在不同气体环境下，利用532bn Nd：YAG纳秒脉冲激光累积辐照单晶硅表面形成的微结构。结果表明，在其他条件相同，背景气体不同......
