相移掩膜相关论文
介绍亚分辨图形掩模的原理、应用及具有亚分辨图形的相移掩模和传统掩模的制作方法和工艺.......
近日.应用材料公司宣布推出先进的Applied Centura TetraTMⅢ掩膜刻蚀设备,它是目前唯一可以提供45纳米光掩膜刻蚀所需要的至关重要......
摘要:目前TFT LCD市场对产品像素密度(PPI)要求越来越高,开发新的高PPI Mobile产品对于平板企业 而言,边效增加会获得更大的利润。实现......
本文论述了相移掩膜(PSM)提高光刻分辨率的基本原理、主要类型、无铬PSM的制作方法,简述了曝光实验和实验结果。用NA=0.28的g线光刻机得到了0.5μm的实际......