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介绍了椭圆偏振光谱（ＳＥ）的原理，给出了椭偏仪在离子注入半导体的辐照损伤研究中的应用和局限。研究表明，结合其它分析手段并建立精细的椭......
在半导体制造工艺流程中，浅沟道隔离（STI）工艺环节中的Si损伤一直是个困扰的问题。由于Si损伤的存在，造成5％－10％的良率损失，同时，严重影响产......
