纳米Ge薄膜相关论文
纳米半导体薄膜具有独特的结构和许多优异的光电性能，在新型光电器件、大规模集成电路等领域有广泛的应用前景。锗是应用较为广泛，最......
膜层生长不均匀是制备SiGe异质结的研究热点。采用射频磁控溅射方法,通过不断改变溅射时的实验参数,寻找能使Ge纳米薄膜在Si基片上......
采用直流磁控溅射技术在不同生长温度制备了一系列的Ge薄膜.应用拉曼散射、X射线衍射、光致发光等技术表征薄膜的结构.结果表明:Ge......
