薄膜晶化相关论文
该文概述了目前世界上常用的利用晶化技术制备多晶硅薄膜的方法,这些技术包括直接固相晶化和激光晶化等,并讨论了它们各自的特点.......
本研究用脉冲激光沉积工艺在单晶MgO(001)上沉积了600nm厚的(Ba0.90Ca0.10)(Zr0.25Ti0.75)O3(BCZT)介电薄膜。在650℃原位退火20 m......
基于金属诱导晶化方法，利用直流磁控溅射离子镀技术制备了Al-Si、Cu-Si和Ni-Si薄膜。采用真空退火炉和X射线衍射仪于不同温度下对样......
激光晶化制备多晶硅薄膜的技术具有晶化温度低、工艺简单，薄膜性能优良等优点，是目前产业界主要采用的多晶硅薄膜的制备技术。但目前......
利用直流磁控溅射制得非晶态氮化碳膜，然后在高温下、常压Ｎ 气氛中进行热处理，利用ＤＴＡ，ＸＲＤ 和Ａｕｇｅｒ研究晶化前后氮化碳成分、结构以及键态的变化．实......
氮掺杂二氧化钛的光催化活性能够被可见光激活,从而大大提高其对太阳光能的利用效率.为了解决材料晶化与氮掺杂在晶化过程中损失这......
