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铜粗抛(P1)相关论文
碱性铜粗抛液中氧化剂对化学机械平坦化的影响
针对不含腐蚀抑制剂苯并三氮唑(BTA)的碱性铜粗抛液,通过对3英寸(1英寸=2.54 cm)铜片上的动态抛光速率和静态腐蚀速率的研究来模拟......
期刊
平坦化
氧化剂
化学机械
碱性抛光液
铜粗抛(P1)
体积分
低差
剩余高低差
去除速率
均匀性
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