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85O3薄膜相关论文
粉末靶材射频磁控溅射法制备BaSn0.15Ti0.85O3薄膜及其性能研究
采用粉末靶材射频磁控溅射技术在Pt/SiO2/Si基片上制备了厚度为300nm的BaSn0.15Ti0.85O3薄膜。薄膜的沉积速度达到40nm/min,比采用传统陶......
期刊
BaSn0
15Ti0
85O3薄膜
射频磁控溅射法
粉末靶材
介电可调
BaSn0.15Ti0.85O3 thin film radio frequency
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