连续模态Pushover分析（ConsecutiveModalPushover，简称CMP）是一种能够考虑结构高阶振型的Pushover分析方法。为研究该法是否适用于钢......

概述了电位-pH图、极化曲线、交流阻抗谱和开路电压测试等电化学方法在铜化学机械抛光(Cu-CMP)中的应用,并分析了采用电化学方法进......

在山地、沟、壑等复杂地表的施工中,采用弯曲测线的施工,部分地段拐角较大,造成了CM P反射点的离散,因此如何减小弯曲测线施工中CM......