利用ＸＰＳ方法，分析四种由不同ＣＶＤ温度（２５０～５５０℃）淀积在ｎ－Ｓｉ衬底上形成异质结的ＳｎＯ＿２透明多晶薄膜的表面．定性和半定量分析表明，表面存在三种氧物种，在加热吸附Ｈ＿２前......