采用直流磁控溅射方法在p型(100)Si衬底上制备了3类Ta基纳米阻挡层薄膜及其对应的Cu/barrier/Si复合膜,并对薄膜样品进行了卤钨灯......

采用直流磁控溅射方法在P型（100）Si衬底上制备了Cu／Ta、Cu／Ta-N和Cu／Ta-Al-N复合膜，并对薄膜样品进行了卤钨灯快速热退火。用四探针电阻......

采用直流反应磁控溅射方法在P型（100）Si衬底上制备了Ta-Al—N纳米薄膜与Cu／Ta-Al—N复合膜，并对薄膜样品进行了卤钨灯快速热退火（RTP）。......