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Ga-diffusion相关论文
开管镓扩散技术改善快速晶闸管通态特性
对提高快速晶闸管发射区nc与基区Pb杂质浓度比值Nc/Nb,降低器件通态压降进行了理论分析;叙述了开管Ga扩散技术的特点,并与闭管Ga扩散和B-A1双质P型扩散方......
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