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Gd2PdSi3相关论文
三元稀土硅化物Gd2PdSi3单晶生长
采用光悬浮区熔法以3 mm/h 的生长速度制备 Gd2PdSi3单晶。该化合物表现为同成分熔融,其熔点在1700°C 左右。与Gd2PdSi3化学计......
期刊
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悬浮区熔
单晶生长
稀土化合物
沉淀
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三元稀土硅化物Gd2PdSi3单晶生长(英文)
采用光悬浮区熔法以3 mm/h的生长速度制备Gd2PdSi3单晶。该化合物表现为同成分熔融,其熔点在1700°C左右。与Gd2PdSi3化学计量成分......
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Gd2PdSi3
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