HfOxNy薄膜相关论文
本文采用磁控溅射法制备了HfOxNy高介电薄膜,结合XRD、XPS等手段研究了退火温度对薄膜的结构和化学键态的影响,发现N的掺入使Hf4f......
本文采用射频反应磁控溅射氧化铪钯的方法,在硅衬底成功制备了高介电HfOxNy薄膜。利用XRD研究了氮的参入对薄膜微结构的影响,结果......
采用射频反应磁控溅射法制备了HfOxNy栅介质薄膜,并研究了HfOxNy栅介质薄膜的光学特性随淀积温度的变化而发生变化的规律.椭偏仪模拟......
本文采用磁控溅射法制备了HfOxNy高介电薄膜,结合XRD、XPS等手段研究了退火温度对薄膜的结构和化学键态的影响,发现N的掺入使Hf4f峰......
采用射频反应磁控溅射法制备了HfOxNy栅介质薄膜,并研究了HfOxNy栅介质薄膜的化学特性和界面结构随淀积温度的变化而发生的变化规律......