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本文叙述了 Hg 敏化光化学气相淀积薄膜的方法,研究了制备 SiO2薄膜的最佳工艺条件。结果表明,当衬底温度约 200℃,而淀积时间、反......
<正> 光化学气相淀积(Photo-chemical vapor deposition,光-CVD)是一种很有前途的半导体低温化技术。用该技术生成的SiO2薄膜可用于......
本文论述了紫外汞灯Hg敏化PVD SiO2薄膜的原理及方法,讨论了PVD SiO2薄膜的光学特性、结构特性、电学特性、附着力及应力,并分析了......
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