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IP胶相关论文

利用等离子体表面预处理改善光掩模IP胶显影工艺特性

IP胶亲水性较差,在显影时易造成显影不完全.介绍了一种在显影前适当增加等离子体表面预处理,以提高IP胶表面微粗糙度,进而改善IP胶......

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IP胶光掩模显影等离子表面预处理亲水性 IP resist photomask development plasma pre-treatment of

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