等离子表面预处理相关硕士博士期刊学术论文 - 搜论网

等离子表面预处理相关论文

利用等离子体表面预处理改善光掩模IP胶显影工艺特性

IP胶亲水性较差,在显影时易造成显影不完全.介绍了一种在显影前适当增加等离子体表面预处理,以提高IP胶表面微粗糙度,进而改善IP胶......

期刊

IP胶光掩模显影等离子表面预处理亲水性 IP resist photomask development plasma pre-treatment of

利用等离子体表面预处理改善光掩模IP胶显影工艺特性

光刻掩模版在集成电路产业中扮演着重要的角色,目前产业界内有掩模版成本越来越高的趋势。作为半导体业多年来的支柱——DNQ光刻胶......

学位

THMR-IP胶 DNQ 光掩模显影等离子表面预处理亲水性

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